高科技制造业的废气处理系统

我们的客户遍布半导体 / 微机电系统（MEMS）、光伏、平板显示及 LED 行业，均受益于德累斯顿团队及全球技术网络积淀的深厚专业实力。凭借对客户生产制程的深入了解，我们深知废气处理对生产流程安全运行的关键意义。我们依托这一技术优势，为客户提供量身定制的高效解决方案。公司研发生产的点位式洗涤塔，可处理流量最高达 5,000 立方米 / 小时的废气，广泛适配多行业应用场景。

如有需求，我们亦可提供集成式废气处理解决方案，方案可整合客户指定型号的真空泵，或搭载干床处理装置等其他配套组件。同时，我们能够将各类技术进行智能组合，构建一套完全匹配客户生产制程需求的完整处理系统。公司的点位式废气处理产品组合，主要涵盖四大技术类别。

燃烧器与scrubber的紧凑型组合方案，依托的是 DAS EE 自创立以来持续迭代积累的专业技术。废气被通入环形燃烧器，系统会根据废气的化学成分，在其中完成氧化、还原或热解等不同反应。随后，相匹配的洗涤液会对反应生成的可溶性气态及固态化合物进行吸收与降温处理。该技术可实现在废气产生使用端（POU）的安全处理，目前已广泛应用于多款 DAS 净化系统，用于去除氟化合物、氨气、硅烷或氢气等危险有害物质，典型应用场景涵盖半导体行业。

燃烧/水洗设备概览

等离子/水洗技术是一项创新型废气净化工艺，对于全氟化合物（PFC）气体等难降解污染物的处理效果尤为显著。在等离子体洗涤塔系统中，设备以氮气为载气，通过直流电激发产生等离子体。该工艺的核心原理是将极高能量传递至待处理废气，促使废气分子发生裂解，进而实现污染物的高效降解。通过调节设备的功率输出，可针对不同工况需求与污染物浓度对系统进行优化配置，赋予设备优异的通用性与运行效率。

等离子/水洗设备概览

生产制程废气被送入裂解区进行分解处理。必要时，可向系统内通入燃料气。系统会根据废气的化学成分，触发氧化、还原或热解等不同类型的反应。

LARCH 系列燃烧设备是专为 LED 与氮化镓（GaN）行业的金属有机化合物气相沉积（MOCVD）制程研发设计的产品。该系列设备可高效处理氢气、氨气等制程典型废气的大流量排放需求。

LARCH设备概览

DAS的催化处理设备是面向半导体行业的创新型解决方案。该系统整合选择性催化还原（SCR）脱硝技术（以氨气为还原剂）与高效膜过滤除尘技术，可实现卓越的废气深度处理效果。系统通过回收80% 以上的制程余热，能够以极低的能耗确保超高的污染物去除效率。凭借这项先进、可靠且环保的解决方案，企业可始终领先于环保法规要求，稳步达成自身的可持续发展目标。

TSUGA设备概览

颗粒物分离是废气处理环节的关键工序，可有效避免管道堵塞，防止含毒粉尘逸散至外界环境。我们的系统可对含有微米级、纳米级颗粒物或气溶胶的制程废气进行过滤处理。DAS为此采用了静电过滤器、离心式分离器等多种分离技术。此外，我们的设备均经过低压力损失优化设计，部分机型在净化过程中甚至可额外产生负压。

颗粒物分离设备概览

RDC 系列设备借助离心力实现细微粉尘颗粒的分离，其工作原理为纯机械的转子 - 定子原理。设备的旋转兼具风机功能，可主动输送废气；因此系统不仅不会产生压力损失，反而能为后续连接的抽风装置提供助力。

旋转式细微粉尘分离设备概览